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第276章 计算机被截胡了（第1页）

十月末的北京，秋意已深。

红星工业研究所，空气里还残留着淡淡的石灰和油漆气味。

二楼的小会议室里，却已充满了技术攻坚的专注与热力。

刘星海教授召集的“星河计划”核心会议正在进行。

会议室的黑板上，用彩色粉笔画着初步拟定的“红星一号”计算器集成电路版图分区——运算器、控制器、存储器、输入输出接口，几个大区块被细致的连线勾勒出数据流向。

旁边列着一串串晶体管数量估算、功耗预测、时钟频率目标的数字。

会议桌上，摊满了从长光所、中科院半导体所等单位送来的技术资料复印件。

纸张的边缘已经微微卷曲，上面用红蓝铅笔做的标记密密麻麻。

“……硅材料纯度问题，半导体所那边拍胸脯保证，年底前能提供满足我们设计需求的6N级样品。”

诸葛彪指着报告中的一页，声音里透着谨慎：“他们的区域熔炼炉改进了加热线圈和温控系统，根据最近三批试验数据，成品率有望从目前的35%提升到50%以上。”

钱兰接话道：“长光所的光学曝光系统，原型机分辨力测试达到了5微米，虽然距离我们理论需求的2微米还有不小差距，但王所长在技术交流会上强调，给他们半年时间，迭代一版光学系统和精密工作台，有望突破到3微米。关键是透镜组的加工精度和装配工艺……”

“真空沉积的均匀性问题，北京真空电子所提出了分段进气方案。”谢凯拿起另一份装订整齐的报告，翻到中间一页，“他们用自行搭建的简易模型做了流体模拟，结果显示不均匀度可以从目前的±15%降低到±8%以内。就等下个月实际设备改装后验证。如果成功，我们设计中的多层薄膜结构就有希望了。”

会议室内烟雾袅袅。

宋颜教授很少抽烟，此刻却也点了一支“大前门”，让辛辣的烟气在肺里转一圈再缓缓吐出。

他听着这些汇报，心里既感到欣慰，又沉甸甸的。

每一项进展都实实在在，但每一项前面都还横着需要跨越的关隘。

硅材料纯度、光刻精度、薄膜均匀性、封装可靠性……

这就像在攀登一座从未有人到达过的山峰，你清楚地知道顶峰在哪里，也找到了可能的路径，但脚下的每一步，都可能遇到意想不到的冰裂缝或暴风雪。